近年来，上海微电子自主研发的90nm光刻机频遭嘲笑，被认为性能太差，远不如阿斯麦（ASML）的产品。

这种嘲笑背后隐藏的是对光刻机制造难度的无知，以及对我国在此领域努力与成就的忽视。

我们不妨做一个假设：如果美国没有欧洲的技术支持，它能独立造出光刻机吗？

恐怕连90nm的级别都难以达到。

同理，欧洲的任何一个国家，也无法独自完成光刻机的制造，包括90nm这一级别。光刻机的制造是一个全球协作的结果，涉及的技术和专利极其复杂，不是单一国家可以轻松搞定的。

那么，当我们再回头看看上海微电子的90nm光刻机，它真的那么不堪吗？

实际上，我国能够凭一己之力造出光刻机，这本身就是一种“遥遥领先”。在全球范围内，能够独立自主研发并生产光刻机的国家寥寥无几。我国不仅做到了这一点，还在不断推动技术进步，努力缩小与国际先进水平的差距。

有人可能会说，台积电的光刻机也是从阿斯麦买的，所以台积电并不具备真正的技术实力。确实，台积电的光刻机并非自主研发，但这并不妨碍它在全球半导体产业中的重要地位。台积电更像是一个高效的生产车间，将买来的光刻机转化为实际的芯片产能。而中国大陆的中芯国际，同样也在这一领域发挥着重要作用。

我们需要认识到，光刻机的制造是一个长期且复杂的过程，需要持续的研发投入和技术积累。上海微电子的90nm光刻机，是我国在这一领域迈出的重要一步。它可能不是最完美的，但它代表了我国的自主研发能力和技术进步的决心。

当我们再听到有人嘲笑上海微电子的90nm光刻机时，不妨提醒他们：在光刻机制造这个领域，能够独立自主已经是一种“遥遥领先”。我们应该给予更多的支持和鼓励，而不是无知的嘲笑和贬低。毕竟，每一个技术的进步，都是人类智慧的结晶，都值得我们去尊重和赞赏。

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